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J-GLOBAL ID：200903024784353461

脱臭装置

Inventor： 佐古 利治 ,  中川 尚治 ,  溝渕 学
Applicant, Patent owner： 松下電工株式会社
Agent (1)： 佐藤 成示 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997004236
Publication number (International publication number)：1998192644
Application date： Jan. 14, 1997
Publication date： Jul. 28, 1998
Summary：

【要約】【課題】 硫黄化合物を含有するガスの脱臭装置であって、取扱いが容易で、性能を長期に渡り維持する脱臭装置を提供する。【解決手段】 ハニカム形状、発泡形状、網状、粒状のいずれかの形状の担体に液相析出法で酸化チタン膜を形成した吸着層1、及び、上記吸着層1の性能を再生させる再生手段2を具備する。上記構成により、ガスの硫黄成分は常温で酸化チタンを担持した吸着層1で吸着することができるので取扱いが容易である。また、この酸化チタンを担持した吸着層1を再生するので長期に渡り使用が可能である。

Claim (excerpt)：

硫黄化合物を含有するガスの脱臭装置であって、ハニカム形状、発泡形状、網状、粒状のいずれかの形状の担体(4)に液相析出法で酸化チタン膜(5)を形成した吸着層(1)、及び、上記吸着層(1)の性能を再生させる再生手段(2)を具備することを特徴とする脱臭装置。

IPC (9)：

B01D 53/38 ,  B01D 53/81 ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/46 ,  B01D 53/86 ,  B01D 53/86 ZAB ,  B01J 20/28 ,  B01J 20/30 ,  B01J 21/06

FI (9)：

B01D 53/34 116 A ,  B01J 20/28 Z ,  B01J 20/30 ,  B01J 21/06 A ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/34 121 Z ,  B01D 53/36 D ,  B01D 53/36 J ,  B01D 53/36 ZAB H