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J-GLOBAL ID：200903024797918832

顔料を含むカラーフィルター用レジストの塗布方法

Inventor： 加藤 芳則 ,  山崎 武教
Applicant, Patent owner： 日本化薬株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993156375
Publication number (International publication number)：1994348023
Application date： Jun. 03, 1993
Publication date： Dec. 22, 1994
Summary：

【要約】【目的】塑性流体、チキソトロピー性流体などの、降伏値を持つ非ニュートン性流体である顔料を含むカラーフィルター用レジストを回転塗布する際、膜厚が均一で、再現性の良い塗膜を得る方法の開発。【構成】回転塗布基上の基板に、塑性流体、チキソトロピー性流体などの、降伏値を持つ非ニュートン性流体である顔料を含むカラーフィルター用レジストを塗布する前に、スタティックミキサーを通してそのチキソ比を1.0〜1.1に調整してから回転塗布を行う。

Claim (excerpt)：

顔料を含むカラーフィルター用レジストを、スピンコーターにて塗布する際、スタティックミキサーにより、該レジストのチクソ比を1.0〜1.1としてから塗布することを特徴とする顔料を含むカラーフィルター用レジストの塗布方法【0001】

IPC (4)：

G03F 7/16 502 ,  B05D 1/40 ,  G02B 5/20 101 ,  H01L 21/027