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J-GLOBAL ID：200903024807995091
ガス分離膜およびその製造法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
吉田 俊夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994085781
Publication number (International publication number)：1995265672
Application date： Mar. 31, 1994
Publication date： Oct. 17, 1995
Summary：
【要約】【目的】 耐薬品性および耐熱性を有する無機膜であって、これを二酸化炭素の分離などに用いた場合、有機膜と同程度の分離性能を示すものを提供する。【構成】 シリカ源としてのテトラ低級アルコキシシラン、アルミナ源、アルカリ金属源および結晶化剤としてのテトラプロピルアンモニウム塩を用いた水性混合物を無機多孔質基質と共に耐圧容器中に封入し、160〜200°Cの水熱合成温度に保持して、無機多孔質基質上にZSM-5である合成ゼオライト層を形成させてガス分離膜を製造する。
Claim (excerpt)：
無機多孔質基質上にZSM-5である合成ゼオライト層を形成せしめてなるガス分離膜。
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1)
Cited by examiner (1)
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