Pat

J-GLOBAL ID：200903024813143480

液晶表示装置用電極基板及び液晶表示装置

Inventor： 福地 俊生 ,  岩本 誠 ,  北畠 顕弘 ,  谷本 雅洋 ,  前川 正樹 ,  下山 直樹
Applicant, Patent owner： シャープ株式会社 ,  三容真空工業株式会社 ,  東レ株式会社
Agent (1)： 小野 由己男 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993342553
Publication number (International publication number)：1995168166
Application date： Dec. 13, 1993
Publication date： Jul. 04, 1995
Summary：

【要約】【目的】 耐熱性、耐擦傷性、平坦性及びガスバリア性を向上させる。【構成】 液晶表示装置用電極基板は、樹脂基板4と硬化被膜3と硬化被膜2とITO膜6とがこの順に積層されて構成されている。樹脂基板4は、マレイミド系単量体を20重量%以上含む共重合体であり、架橋構造をもち、ガラス転移温度が160°C以上200°C以下である透明樹脂からなり、厚さが0.1〜0.8mmである。硬化被膜3は、R1 SiX3 で表されるエポキシシランで架橋されたポリビニルアルコールを含む硬化被膜である(R1 はグリシジル基を含む炭素数1〜10の有機基であり、Xは加水分解性基である)。硬化被膜2は、シリカ微粒子を含むシロキサン系硬化被膜である。ITO膜6は、基板温度100°C以下において、表面が直径500nm以下のグレイン状に形成された、厚さ15〜500nmのITO膜である。

Claim (excerpt)：

下記A,B,C,E層がこの順序で積層された液晶表示装置用電極基板。A層:マレイミド系単量体を20重量%以上含む共重合体であり、架橋構造をもち、ガラス転移温度が160°C以上200°C以下である透明樹脂からなり、厚さが0.1〜0.8mmである樹脂基板B層:一般式(1)で表されるエポキシシランおよび/またはその加水分解物で架橋されたポリビニルアルコールを含む硬化被膜R1 SiX3 (1)(ここで、R1 はグリシジル基を含む炭素数1〜10の有機基であり、Xは加水分解性基である)C層:シリカ微粒子を含むシロキサン系硬化被膜E層:基板温度100°C以下において、表面が直径500nm以下のグレイン状に形成された、厚さ15〜500nmのITO膜

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 液晶表示装置用電極基板およびそれを用いた液晶表示装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-148800   Applicant：シャープ株式会社, 三容真空工業株式会社, 東レ株式会社
• 特開昭64-088425