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J-GLOBAL ID：200903024814527907

ダイヤモンド膜及びその製造方法

Inventor： 野口 仁 ,  久保田 芳宏
Applicant, Patent owner： 信越化学工業株式会社
Agent (1)： 好宮 幹夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002123920
Publication number (International publication number)：2003321296
Application date： Apr. 25, 2002
Publication date： Nov. 11, 2003
Summary：

【要約】【課題】 ドープ工程で人体への甚大な悪影響や爆発などの取り扱い上の問題が少なく、かつ容易に再現性良く均一に、低電気抵抗値のダイヤモンド膜を製造することができる方法を提供する。【解決手段】 少なくとも、原料ガスを導入して気相反応により基材上にダイヤモンド膜を製造する方法において、ボロンのドープ源としてB(OCH3)3ガスを前記原料ガス中に含ませ、該原料混合ガスを用いて気相反応により基材上にダイヤモンド膜を析出させることを特徴とするダイヤモンド膜の製造方法。

Claim (excerpt)：

少なくとも、原料ガスを導入して気相反応により基材上にダイヤモンド膜を製造する方法において、ボロンのドープ源としてB(OCH3)3ガスを前記原料ガス中に含ませ、該原料混合ガスを用いて気相反応により基材上にダイヤモンド膜を析出させることを特徴とするダイヤモンド膜の製造方法。

IPC (2)：

C30B 29/04 ,  C23C 16/27

FI (2)：

C30B 29/04 E ,  C23C 16/27

F-Term (20)：

4G077AA03 ,  4G077BA03 ,  4G077DB19 ,  4G077EB01 ,  4G077ED05 ,  4G077ED06 ,  4G077EE05 ,  4G077HA20 ,  4G077TA04 ,  4G077TB02 ,  4G077TK01 ,  4K030AA09 ,  4K030AA20 ,  4K030BA28 ,  4K030CA04 ,  4K030DA02 ,  4K030FA01 ,  4K030JA01 ,  4K030JA06 ,  4K030KA49

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開平4-107810
  
• 特開平4-107810