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J-GLOBAL ID：200903024834886989

めっき浴

Inventor：
正木 征史

About 正木 征史

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武内 孝夫

About 武内 孝夫

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小幡 惠吾

About 小幡 惠吾


Applicant, Patent owner：
株式会社大和化成研究所

About 株式会社大和化成研究所


Agent (1)： 倉内 基弘 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997215507
Publication number (International publication number)：1999050295
Application date： Jul. 28, 1997
Publication date： Feb. 23, 1999
Summary：
【要約】【課題】 新規な貴金属のめっき浴を提供する。【解決手段】 特定の界面活性剤の1種又は2種以上を添加したことを特徴とする金、白金、ロジウム、ルテニウム、それらの金属を70%以上含む合金又はパラジウムを70%以上含む合金の電気及び(又は)無電解めっき浴である。細かい窪みや狭隘な隙間にめっき液が十分に浸透し、めっきされない個所ができにくく、また、前処理としての脱脂が多少不十分であった場合にもめっき不良を生じにくい。
Claim (excerpt)：
下記の(1)〜(24)の界面活性剤:(1)ポリオキシアルキレン系界面活性剤、(2)ポリオキシアルキレンアルキルエーテル(又はエステル)系界面活性剤、(3)ポノオキシアルキレンフェニル(又はアルキル若しくはアルキルフェニル)エーテル系界面活性剤、(4)ポリオキシアルキレンナフチル(又はアルキルナフチル)エーテル系界面活性剤、(5)ポリオキシアルキレンスチレン化フェニルエーテル系界面活性剤、(6)ポリオキシアルキレンスチレン化フェニルエーテルのフェニル基にさらにポリオキシアルキレン鎖を付加した界面活性剤、(7)ポリオキシアルキレンアルキル(又はアルケニル)アミン(又はアミド)系界面活性剤、(8)アルキレンジアミンのアルキレンオキシド付加物系界面活性剤、(9)リン酸エステル系界面活性剤、(10)脂肪酸塩又はポリオキシエチレンアルキルエーテル酢酸塩系界面活性剤、(11)アルキル又はアルキルベンゼンスルホン酸塩系界面活性剤、(12)アルキルエーテルスルホン酸塩系界面活性剤、(13)アルキル(又はアルコキシ)ナフタレンスルホン酸又はそれらのアルカリ金属塩系界面活性剤、(14)アルキルジフェニルエーテルスルホン酸又はそれらのアルカリ金属塩系界面活性剤、(15)アルキル硫酸エステル系界面活性剤、(16)N-アシルアミノ酸( 塩) 系界面活性剤、(17)N-アシルスルホカルボン酸塩系界面活性剤、(18)アルキルスルホカルボン酸エステル塩系界面活性剤、(19)アルキル脂肪酸グリセリン硫酸エステル塩系界面活性剤、(20)アンモニウム4級塩系界面活性剤、(21)イミダゾリニウム系界面活性剤、(22)アルキルエチレン(又はプロピレン)ジアミン系界面活性剤、(23)アルキルイミダゾリニウムベタイン系界面活性剤、及び(24)アルキル(又はアミド又はアミン)ベタイン系界面活性剤から選ばれる界面活性剤の1種又は2種以上を0.001〜50g/lの濃度で添加したことを特徴とする金、白金、ロジウム、ルテニウム、それらの金属を70%以上含む合金又はパラジウムを70%以上含む合金の電気及び(又は)無電解めっき浴。
IPC (6)：
C25D 3/48 ,  C23C 18/28 ,  C23C 18/42 ,  C25D 3/50 101 ,  C25D 3/50 102 ,  C25D 3/56
FI (7)：
C25D 3/48 ,  C23C 18/28 A ,  C23C 18/42 ,  C25D 3/50 101 ,  C25D 3/50 102 ,  C25D 3/56 E ,  C25D 3/56 F
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (10)
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