Pat
J-GLOBAL ID：200903024859819518

狭分散性重合体を用いたポジ型レジスト組成物

Inventor：
寺川 貴清

About 寺川 貴清

, 
井上 博貴

About 井上 博貴


Applicant, Patent owner：
住友化学工業株式会社

About 住友化学工業株式会社


Agent (1)： 久保山 隆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998163874
Publication number (International publication number)：1999352695
Application date： Jun. 11, 1998
Publication date： Dec. 24, 1999
Summary：
【要約】【課題】 ある種の方法により製造された分子量分布の狭い樹脂を用いて、解像度に優れた化学増幅型のポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】 下式(I)(式中、Rは炭素原子数1〜12のアルキル又は全炭素原子数1〜12のアルカノイルを表す)で示されるスチレン誘導体をフリーラジカル開始剤及び安定フリーラジカル作用剤の存在下、リビング的にラジカル重合して得られた狭分散性ポリスチレン類の-Rに相当する基の少なくとも一部を脱離させて、それに相当する-O-Rの部分を水酸基とした後、酸に不安定な基で該水酸基を部分的に保護してなり、それ自身ではアルカリに不溶又は難溶であるが、酸の作用によりアルカリ可溶となる樹脂(A)、及び酸発生剤(B)を、有機溶剤(C)に溶解してなる化学増幅型ポジ型レジスト組成物。
Claim (excerpt)：
(A)下式(I)(式中、Rは炭素原子数1〜12のアルキル又は全炭素原子数1〜12のアルカノイルを表す)で示されるスチレン誘導体をフリーラジカル開始剤及び安定フリーラジカル作用剤の存在下、リビング的にラジカル重合して得られた狭分散性ポリスチレン類の-Rに相当する基の少なくとも一部を脱離させて、それに相当する-O-Rの部分を水酸基とした後、酸に不安定な基で該水酸基を部分的に保護してなり、それ自身ではアルカリに不溶又は難溶であるが、酸の作用によりアルカリ可溶となる樹脂、(B)酸発生剤、及び(C)これらを溶解する有機溶剤を含有することを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物。
IPC (2)：
G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027
FI (2)：
G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM