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J-GLOBAL ID：200903024874682391

低温時にエチレングリコールジメチルエーテルを用いて、工業用ガスからガス成分を除去する方法

Inventor：
ヴィショフスキ・ミヒャエル

About ヴィショフスキ・ミヒャエル

, 
ホーベルク・ディルク

About ホーベルク・ディルク


Applicant, Patent owner：
ウーデ・ゲゼルシャフト・ミト・ベシュレンクテル・ハフツング

About ウーデ・ゲゼルシャフト・ミト・ベシュレンクテル・ハフツング


Agent (4)： 江崎 光史 ,  三原 恒男 ,  奥村 義道 ,  鍛冶澤 實
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2003516659
Publication number (International publication number)：2004536207
Application date： Jul. 17, 2002
Publication date： Dec. 02, 2004
Summary：
本発明は工業用ガスからガス成分を除去するための方法である。この場合、ガス成分をガス洗浄装置(2)を用いて、工業用ガス(1)から洗浄除去するとともに、ガス洗浄後ガス成分で汚染された洗浄剤を独立した再生工程(8)内でこれらの成分から再度除去し、ガス洗浄装置内のガス成分を、+15°Cから-60°Cの温度で洗浄除去する。その際洗浄剤としてエチレングリコールジメチルエーテルあるいは種々のエチレングリコールジメチルエーテル類の混合物を使用し、この洗浄剤は-30°C未満の凝固点と常圧で275°C未満の沸騰温度とを有し、かつ230g/mol未満のモル質量を有する。
Claim (excerpt)：
ガス成分をガス洗浄装置を用いて工業用ガスから洗浄除去するとともに、ガス成分で汚染された洗浄剤を、洗浄後、独立した再生工程内でこれらの成分から再度除去し、その際洗浄剤として、-30°C未満の凝固点と常圧時に275°C未満の沸騰温度を有し、かつ230g/mol未満のモル質量を有するエチレングリコールジメチルエーテルあるいは種々のエチレングリコールジメチルエーテル類の混合物を使用する工業用ガスからガス成分を除去するための方法において、 洗浄装置内におけるガス成分を-18°Cから-60°Cの温度で洗浄除去することを特徴とする方法。
IPC (3)：
C10K1/16 ,  B01D53/14 ,  C10L3/10
FI (4)：
C10K1/16 ,  B01D53/14 C ,  B01D53/14 102 ,  C10L3/00 B
F-Term (19)：
4D020AA04 ,  4D020AA06 ,  4D020AA08 ,  4D020AA09 ,  4D020AA10 ,  4D020BA19 ,  4D020BB04 ,  4D020BC01 ,  4D020CC10 ,  4D020DA03 ,  4D020DB02 ,  4H060BB23 ,  4H060DD02 ,  4H060DD05 ,  4H060DD12 ,  4H060DD14 ,  4H060DD21 ,  4H060DD28 ,  4H060FF04
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (5)
  • 特開平4-018911
  • 特開昭50-015785
  • 特開昭50-045002
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