Pat

J-GLOBAL ID：200903024889654572

分子ふるい炭素膜およびその製造法

Inventor： 岡本 健一 ,  喜多 英敏 ,  丸茂 千郷 ,  山本 正樹
Applicant, Patent owner： 鐘紡株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996227397
Publication number (International publication number)：1998052629
Application date： Aug. 09, 1996
Publication date： Feb. 24, 1998
Summary：

【要約】【課題】本発明は微細な細孔の分子ふるい効果による透過速度の差を利用したガスの分離精製に用いられる分子ふるい炭素膜、およびその製造法を提供することを目的とする。【解決手段】セラミック多孔質体表面に液状熱硬化性樹脂を塗布して高分子膜を形成した後、非酸化性雰囲気下で550 〜1100°Cで熱処理することにより、炭素含有率80% 以上で、細孔直径1nm 以下の細孔が多数存在することを特徴とする分子ふるい炭素膜を得る。

Claim (excerpt)：

気孔率30〜80% のセラミック多孔質体表面に密着し、炭素含有率80% 以上で、細孔直径1nm以下の多数の細孔が存在することを特徴とする分子ふるい炭素膜。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 特開平1-262902