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J-GLOBAL ID：200903024905786107

排ガスの処理方法

Inventor： 川村 和茂 ,  粟井 英司 ,  武田 大 ,  岩▲崎▼ 守 ,  木村 隆志
Applicant, Patent owner： 千代田化工建設株式会社
Agent (1)： 池浦 敏明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995179576
Publication number (International publication number)：1997000867
Application date： Jun. 22, 1995
Publication date： Jan. 07, 1997
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】 排ガスに含まれている亜硫酸ガス及び粉塵を高効率でかつ経済的に除去し得る方法を提供する。【構成】 第1隔板2と第2隔板3とによって第1室5と第2室6と第3室7とに区画された密閉槽の第2室に排ガスを供給し、ガス分散管9を通して第1室の吸収液中に吹込み、上部空間の排ガスを排ガス上昇筒10内を上昇させる、第1室の排ガス中及び/又は排ガス上昇筒の排ガス中に洗浄液をスプレーし、排ガスを洗浄液の液滴と接触させ、排ガス上昇筒を通して第3室に上昇してきた洗浄液の液滴を含む排ガスを排ガス流路変更部材26に衝突させてその排ガス流路を下降流となし、第2隔板上に滞留している洗浄液に接触させ、第3室内の排ガスを排ガス出口11から排出させ、ミストエリミネータを通過させる。

Claim (excerpt)：

排ガス中に含まれている粉塵と亜硫酸ガスを除去する方法において、(i)第1隔板とその上方に位置する第2隔板とによってその内部が第1室と第1室の上方に隣接する第2室と第2室の上方に隣接する第3室とに区画された密閉槽におけるその第2室に排ガスを供給すること、(ii)第2室に供給された排ガスを第1隔板に形成された透孔に垂設された排ガス分散管を通して第1室に収容されている吸収液中に吹込むこと、(iii)第1室の上部空間に存在する排ガスを第1室と第3室との間を連絡し、その上端が第2隔板表面より上方に位置する排ガス上昇筒内を上昇させること、(iv)第1室の上部空間に存在する排ガス中及び/又は排ガス上昇筒を上昇する排ガス中に洗浄液をスプレーし、排ガスを洗浄液の液滴と接触させること、(v)排ガス上昇筒を通して第3室に上昇してきた洗浄液の液滴を含む排ガスをその排ガス上昇筒の上方に配設されているその先端が第2隔板表面と排ガス上昇筒の上端との間に位置するガス案内壁を有する排ガス流路変更部材に衝突させてその排ガス流路を下降流となし、第2隔板上に滞留している洗浄液に接触させること、(vi)第3室内の排ガスを第3室に配設された排ガス出口から排出させること、(vii)第3室から排出された排ガスをミストエリミネータを通過させること、を特徴とする排ガスの処理方法。

IPC (6)：

B01D 53/50 ,  B01D 53/77 ,  B01D 47/02 ,  B01D 47/06 ,  B01D 53/18 ,  B01D 53/34 ZAB

FI (5)：

B01D 53/34 125 Q ,  B01D 47/02 Z ,  B01D 47/06 A ,  B01D 53/18 E ,  B01D 53/34 ZAB