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J-GLOBAL ID：200903024910276524

低酸素気体発生装置及び低酸素室並びに低酸素マスク

Inventor： 松原 賢政 ,  朝田 忠
Applicant, Patent owner： 株式会社大成化研 ,  朝田 忠
Agent (2)： 中川 裕幸 ,  反町 行良
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005220207
Publication number (International publication number)：2006328931
Application date： Jul. 29, 2005
Publication date： Dec. 07, 2006
Summary：

【課題】低酸素室を構成する際に、酸素濃度の低減を合理的に行う。【解決手段】本発明に係る低酸素気体の発生装置は、圧力変動ガス分離法を採用して空気から高濃度酸素気体を分離すると共に低濃度酸素気体を排気する酸素分離装置2と、酸素分離装置2に空気を供給するコンプレッサー3とを有し、酸素分離装置2から排気された低濃度酸素気体を室1又は低酸素マスク8に供給し得るように構成する。また低酸素室は、酸素分離装置2と、酸素分離装置2に空気を供給するコンプレッサー3と、所定の容積を持ち且つ外部との通気孔1aを有し酸素分離装置2から排気された低濃度酸素気体が供給される室1とを有する。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

圧力変動ガス分離法を採用して空気から高濃度酸素気体を分離すると共に低濃度酸素気体を排気する酸素分離装置と、前記酸素分離装置に空気を供給する空気圧縮装置と、を有し、前記酸素分離装置から排気された低濃度酸素気体を所定の空間又は部材に供給し得るように構成したことを特徴とする低酸素気体の発生装置。

IPC (5)：

E04H 3/14 ,  A63B 22/00 ,  A63B 23/18 ,  B01D 53/04 ,  C01B 21/04

FI (5)：

E04H3/14 Z ,  A63B22/00 ,  A63B23/18 ,  B01D53/04 B ,  C01B21/04 D

F-Term (5)：

4D012CA04 ,  4D012CB11 ,  4D012CD07 ,  4D012CG01 ,  4D012CH10