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J-GLOBAL ID：200903024911267545
導波路の製造方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
長谷川 芳樹 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993195165
Publication number (International publication number)：1995027941
Application date： Jul. 12, 1993
Publication date： Jan. 31, 1995
Summary：
【要約】【目的】 導波部となる部分のみの屈折率を高め、光閉じ込めの良好な導波路を得るための製造方法を提供する。【構成】 LiNbO3 基板1表面にTi膜2を成膜した後、パターニングされたフォトレジスト3aをマスクとしてこのTi膜2をエッチングあるいはダイシング加工し、成形されたTiパターン2aをマスクとしてLiNbO3 1表面をエッチングあるいはダイシング加工することによりリッジ構造を作り込み、さらにマスクとして残したTiパターン2aを熱拡散させることにより、リッジ構造の導波部1aを有するTi拡散LiNbO3 導波路を製造する。
Claim (excerpt)：
誘電体光学材料からなる基板表面に遷移金属膜を成膜した後、パターニングされたフォトレジストをマスクとして該遷移金属膜を導波路形状にエッチングあるいはダイシング加工する第1の工程と、前記パターニングされた遷移金属膜をマスクとして前記誘電体光学材料表面をエッチングあるいはダイシング加工することにより、該誘電体光学材料の表面に導波部となるリッジ構造部を形成する第2の工程と、前記導波部となるリッジ構造部の上部表面にマスクとして残した遷移金属膜を熱拡散させることにより、該誘電体光学材料の表面に屈折率の高いリッジ構造の導波部を形成する第3の工程を備えた導波路の製造方法。
IPC (2)：
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
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