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J-GLOBAL ID:200903024911799091
光学素子およびそれを用いた光情報処理装置および光学素子の製造方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
小鍜治 明 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993077839
Publication number (International publication number):1994027322
Application date: Apr. 05, 1993
Publication date: Feb. 04, 1994
Summary:
【要約】【目的】 マスク合わせのいらない簡単な作製工程で作製可能な信頼性が高く生産性が良く、かつ消光比の良好な偏光分離素子を実現する。【構成】 x面のニオブ酸リチウム基板20へ周期的にプロトン交換層21を形成、さらにフッ酸による選択エッチングにより溝24する。このようにして作製された偏光分離素子はプロトン交換層21および溝24を透過する光はそれぞれの部分で、これらを透過しない光に対して位相のずれが生じる。常光が入射した場合プロトン交換層21,溝24ともに位相進みが生じるが、異常光が入射した場合はプロトン交換層21では位相の遅れが、溝24では位相の進みが生じ位相のずれを相殺し合う方向に作用する。プロトン交換層21および溝24の深さを適当に選択することにより、常光を回折し異常光を回折しない偏光分離素子を実現できる。
Claim (excerpt):
LixTa1-xNbO3(0≦x≦1)結晶のX面もしくはY面にプロトン交換層を持ち、前記プロトン交換層の表面が前記LixTa1-xNbO3(0≦x≦1)結晶表面に対して凹であることを特徴とする光学素子。
IPC (5):
G02B 5/30
, G02B 5/18
, G02B 6/12
, G11B 7/135
, G11B 11/10
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
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特開昭63-314502
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回折格子型光偏光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-008205
Applicant:株式会社日立製作所
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