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J-GLOBAL ID：200903024923997832

放電ガス処理装置

Inventor： 水野 彰 ,  桑原 拓哉 ,  内藤 健太 ,  加藤 茂
Applicant, Patent owner： 水野 彰 ,  日新電機株式会社
Agent (1)： 山本 惠二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000242870
Publication number (International publication number)：2002052309
Application date： Aug. 10, 2000
Publication date： Feb. 19, 2002
Summary：

【要約】【課題】 ガスをその発生源から大気開放部まで導くダクトを有効利用することによって、装置設置に必要なスペースを少なくしてスペース利用効率の向上を図る。【解決手段】 この放電ガス処理装置は、ガス2をその発生源4から大気開放部8まで導く金属製のダクト6の少なくとも一部分内の空間に、ダクト6に沿って線状の放電電極16を配置して、この放電電極16とダクト6間のガス2中で非平衡プラズマ放電を発生させる放電処理部20を形成している。更に、放電電極16とダクト6間にパルス電圧VP を印加して前記非平衡プラズマ放電を発生させるパルス電源12を備えている。

Claim (excerpt)：

ガスをその発生源から大気開放部まで導く金属製のダクトの少なくとも一部分内の空間に、当該ダクトに沿って線状の放電電極を配置して、この放電電極と当該ダクト間のガス中で非平衡プラズマ放電を発生させる放電処理部を形成しており、かつ前記放電電極と前記ダクト間にパルス電圧を印加して前記非平衡プラズマ放電を発生させるパルス電源を備えていることを特徴とする放電ガス処理装置。

IPC (2)：

B01D 53/32 ,  B01J 19/08

FI (2)：

B01D 53/32 ,  B01J 19/08 C

F-Term (8)：

4G075AA03 ,  4G075AA37 ,  4G075BA05 ,  4G075CA18 ,  4G075CA47 ,  4G075DA01 ,  4G075EB21 ,  4G075FC15