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J-GLOBAL ID:200903024927606854

排気ガス浄化用触媒及びその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 杉村 暁秀 (外8名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998298458
Publication number (International publication number):2000126603
Application date: Oct. 20, 1998
Publication date: May. 09, 2000
Summary:
【要約】【課題】 コールドHCに対する吸着効率に優れ、更に吸着したHCを脱離し難いHC吸着剤含み、理論空燃比域でHC,CO,NOx のバランスのよい浄化ができる排気ガス浄化用触媒及びその製造方法を提供する。【解決手段】 触媒成分担持層を有する一体構造型触媒であって、ゼオライトを主成分とし、パラジウム、ロジウム及び白金から成る群より選ばれる少なくとも一種と、セリウム、ジルコニウム及びランタンから成る群より選ばれる少なくとも一種とが含有される第1層と、該第1層上に、パラジウム、ロジウム及び白金から成る群より選ばれる少なくとも一種が含有される第2層とから成る。
Claim (excerpt):
触媒成分担持層を有する一体構造型触媒であって、ゼオライトを主成分とし、パラジウム、ロジウム及び白金から成る群より選ばれる少なくとも一種と、セリウム、ジルコニウム及びランタンから成る群より選ばれる少なくとも一種とが含有される第1層と、該第1層上に、パラジウム、ロジウム及び白金から成る群より選ばれる少なくとも一種が含有される第2層とから成ることを特徴とする排気ガス浄化用触媒。
IPC (5):
B01J 29/068 ZAB ,  B01D 53/94 ,  B01J 29/12 ,  B01J 29/18 ,  B01J 29/80
FI (5):
B01J 29/068 ZAB A ,  B01J 29/12 A ,  B01J 29/18 A ,  B01J 29/80 A ,  B01D 53/36 104 A
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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