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J-GLOBAL ID：200903024946830048

レーザ修正方法および装置

Inventor：
森重 幸雄

About 森重 幸雄


Applicant, Patent owner：
日本電気株式会社

About 日本電気株式会社


Agent (1)： 京本 直樹 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000250900
Publication number (International publication number)：2002062637
Application date： Aug. 22, 2000
Publication date： Feb. 28, 2002
Summary：
【要約】【課題】レーザ蒸散作用により欠陥部の膜を除去するレーザ修正装置において、蒸散により生じた微粒子がマスク基板や対物レンズに再付着することを防止できるレーザ修正方法および装置を提供することにある。【解決手段】レーザ光をマスク基板1上の所定の位置に照射して、欠陥部の膜をレーザ蒸散作用により除去するレーザ修正装置において、レーザ光を照射する対物レンズを、マスク基板の下方に配置し、かつ対物レンズとマスク基板の間に、レーザ照射部を頂点として、回転しながら下方に降下する渦巻き状の高速気流を形成し、加工により生じた微粒子を高速気流に下流域に配置した吸い込み口4に吸い込むことを特徴とする。
Claim (excerpt)：
レーザ光源と、薄膜パターンが形成された基板上の前記パターンに存在する欠陥部に前記レーザ光を照射するレーザ照射光学系と、前記基板を移動させるX-Yステージを備え、前記欠陥部の前記薄膜をレーザ蒸散作用により除去するレーザ修正装置であって、下面に前記パターンを有する基板の下方にレーザ光を照射する対物レンズを配置し、前記対物レンズと前記基板との間に前記基板下面に沿いかつ前記基板上の前記レーザ照射部に向かって流れた後前記レーザ照射部を頂点とし下方に半径を拡げながら回転降下する渦巻き状の気流を形成し、加工により生じた微粒子を含む前記気流を下流域で排気する手段を備えたことを特徴とするレーザ修正装置。
IPC (4)：
G03F 1/08 ,  B23K 26/00 ,  B23K 26/14 ,  B23K101:40
FI (4)：
G03F 1/08 V ,  B23K 26/00 H ,  B23K 26/14 A ,  B23K101:40
F-Term (7)：
2H095BD32 ,  2H095BD34 ,  4E068CG02 ,  4E068CH07 ,  4E068CH08 ,  4E068CJ01 ,  4E068DA10
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3)
  • 特開昭63-036249
  • チャンバレスレーザCVD装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-095515   Applicant：日本電気株式会社
  • 特開昭56-001532
Cited by examiner (2)

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