Pat

J-GLOBAL ID：200903024965321642

露光装置

Inventor： 神▲崎▼ 豊樹 ,  大槻 久仁夫
Applicant, Patent owner： 株式会社堀場製作所
Agent (1)： 藤本 英夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997220867
Publication number (International publication number)：1999054423
Application date： Jul. 31, 1997
Publication date： Feb. 26, 1999
Summary：

【要約】【課題】 半導体ウェーハの平坦度に部分的なバラツキがあるような場合でも、露光の焦点ズレを最小にし、最適な状態で所望の露光を行うことができる露光装置を提供すること。【解決手段】 半導体ウェーハ15のワンチップサイズの領域15Aごとの平坦度を測定して得られる平坦度情報に基づいて前記各領域における仮想平面28をそれぞれ求め、前記領域15Aを領域単位で露光する際、前記仮想平面28における法線29が露光光学系の光軸30に対して最適な角度となるように露光用ステージ16を傾けるようにしている。

Claim (excerpt)：

半導体ウェーハのワンチップサイズの領域ごとの平坦度を測定して得られる平坦度情報に基づいて前記各領域における仮想平面をそれぞれ求め、前記領域を領域単位で露光する際、前記仮想平面における法線が露光光学系の光軸に対して最適な角度となるように露光用ステージを傾けるようにしたことを特徴とする露光装置。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 7/207

FI (4)：

H01L 21/30 516 B ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 7/207 ,  H01L 21/30 526