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J-GLOBAL ID:200903024995017794

光屈折率格子形成の改良された方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 合田 潔 (外4名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993315019
Publication number (International publication number):1994235809
Application date: Dec. 15, 1993
Publication date: Aug. 23, 1994
Summary:
【要約】【目的】 ポリマー光屈折材料を使用する光屈折純層2ビームカップリングを生ずる改良された方法の提供。【構成】 ポリマー光学物品を(i)が外部電界及び(ii)コヒーレント電磁放射の2つの交差するビームにさらしてNLO発色団を配向させそして1×10-5より大きい屈折率格子振幅を持つ屈折率格子を形成させることからなる光屈折率格子の形成方法において前記物品は電荷移送剤及び処理工程の間配向に感受性であるNLO発色団からなることを特徴とする方法。
Claim (excerpt):
ポリマー光学物品を(i)外部電界及び(ii)コヒーレント電磁放射の2つの交差するビームにさらしてNLO発色団を配向させそして1×10-5より大きい屈折率格子振幅を持つ屈折率格子を形成させることからなる光屈折率格子の形成方法において、前記物品は電荷移送剤及び処理の間配向に感受性であるNLO発色団からなることを特徴とする方法。

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