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J-GLOBAL ID：200903024997920440

ホスファゼン化合物

Inventor： 赤田 民生 ,  藤井 祥伸 ,  小林 永芳 ,  藤本 理絵
Applicant, Patent owner： 株式会社松村石油研究所
Agent (1)： 田村 巌
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001056112
Publication number (International publication number)：2002293787
Application date： Sep. 19, 2000
Publication date： Oct. 09, 2002
Summary：

【要約】【課題】 良好なCSS耐久性を有するハードディスク用潤滑剤に使用される化合物を提供する。【解決手段】 -CF2O-、-CF2CF2O-、から選ばれたパーフルオロオキシアルキレン単位がランダムに分布した配列よりなり、さらに官能末端基Aを有する、下記の式(1)で表されるホスファゼン化合物。A-OCH2CF2O(CF2CF2O)p(CF2O)qCF2CH2OH (1)[式中、Aは下記式(a)で表される基である。ここで、Rは、水素原子、C1〜4のアルキル、C1〜4のアルコキシ、C1〜4のハロアルキル、アリール、置換アリール、アリールオキシ、置換アリールオキシであり、pおよびqは1〜30の実数である。]【化1】

Claim (excerpt)：

-CF2O-、-CF2CF2O-、から選ばれたパーフルオロオキシアルキレン単位がランダムに分布した配列よりなり、さらに官能末端基Aを有する、下記の式(1)で表されるホスファゼン化合物。A-OCH2CF2O(CF2CF2O)p(CF2O)qCF2CH2OH (1)[式中、Aは下記式(a)で表される基である。ここで、Rは、水素原子、C1〜4のアルキル、C1〜4のアルコキシ、C1〜4のハロアルキル、アリール、置換アリール、アリールオキシ、置換アリールオキシであり、pおよびqは1〜30の実数である。]【化1】

IPC (6)：

C07F 9/6596 ,  G11B 5/725 ,  C10M105/74 ,  C10M107/48 ,  C10N 30:06 ,  C10N 40:18

FI (6)：

C07F 9/6596 ,  G11B 5/725 ,  C10M105/74 ,  C10M107/48 ,  C10N 30:06 ,  C10N 40:18

F-Term (8)：

4H050AB60 ,  4H104BH14A ,  4H104CH09A ,  4H104LA03 ,  4H104PA16 ,  5D006AA01 ,  5D006DA03 ,  5D006FA06

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 磁気記録媒体および該磁気記録媒体の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-371601   Applicant：富士電機株式会社