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J-GLOBAL ID：200903025007807099

マスク像拡大によるリソグラフシステムおよび方法

Inventor： ウイリアム・ジー・マッキンリー ,  ジェラルド・エム・パーロン ,  バージ・タティアン
Applicant, Patent owner： エイチイー・ホールディングス・インコーポレーテッド・ディービーエー・ヒューズ・エレクトロニクス
Agent (1)： 鈴江 武彦 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996118084
Publication number (International publication number)：1997146281
Application date： May. 13, 1996
Publication date： Jun. 06, 1997
Summary：

【要約】【課題】 本発明は、標準寸法のマスクを使用し、1回の露光処理でフラットパネルディスプレイ等の大きい基体に対して大きいマスクパターンを形成することのできるモフォトリソグラフシステムを提供することを目的とする。【解決手段】 光源12と、その光源12からの光14によりマスク20を照射する照明光学系16と、マスク20を透過して送られた光を受け、基体28の表面上にマスクの拡大された像を投影する投影光学系24とを備え、投影光学系24は非球面等の非円錐形状の湾曲した表面を有する光学素子を含んでいることを特徴とする。投影光学系には非点収差補正装置等の歪み補正装置を含ませることができる。

Claim (excerpt)：

光源と、その光源からの光によりマスクを照射するための照明光学系と、マスクを透過して送られた光を受け、基体の表面上にマスクの拡大された像を投影する投影光学系とを具備し、この投影光学系は非円錐形状の湾曲した表面を有する少なくとも1つの光学素子を含んでいることを特徴とするフォトリソグラフシステム。

IPC (3)：

G03F 7/20 521 ,  H01J 9/02 ,  H01L 21/027

FI (4)：

G03F 7/20 521 ,  H01J 9/02 F ,  H01L 21/30 515 D ,  H01L 21/30 516 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 照明装置及びそれを有する露光装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-237654   Applicant：株式会社ニコン
• 露光装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-240534   Applicant：松下電器産業株式会社
• 露光方法及び露光装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-318163   Applicant：株式会社日立製作所
• 特開平4-144116