処理装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：亀谷美明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993185502
Publication number (International publication number)：1995022341
Application date： Jun. 29, 1993
Publication date： Jan. 24, 1995
Summary：

【要約】【目的】シャワーヘッドのマルチゾーン化により処理ガス供給の制御精度を高める。【構成】本発明に基づいて構成された、被処理体が載置された処理室内に処理ガスを導入するためのシャワーヘッドは、そのシャワーヘッドを隔壁により複数の区画に気密に分割するとともに、各区画にそれぞれ個別に制御可能なマスフローコントローラを接続し、所定のガス源から供給された所定の処理ガスが上記各マスフローコントローラにより個別に流量制御されて上記各区画を介して上記処理室内に導入可能なように構成されている。その結果、処理室に供給される処理ガスの流量の制御精度を向上させることができ、所望の成膜レートで、均一かつ高品質の膜を形成することができる。

Claim (excerpt)：

所定の減圧雰囲気に調整可能な処理室内に所定のガス源から所定の処理ガスを導入するための多数の吐出口を有するガス導入機構を備え、前記処置室内の載置台に載置された被処理体を処理する処理装置において、前記多数の吐出口を有するガス導入機構は、前記多数の吐出口を有するガス導入機構の内部を略同心円状に配置された複数の区画に気密に分割するための隔壁と、前記所定のガス源から所定の処理ガスを前記各区画を介して前記処理室内に個別に流量制御して供給するべく、各々のガス導入経路に対して個別に介装された複数の流量制御装置と、を備えていることを特徴とする、処理装置。

IPC (2)：

H01L 21/205 , H01L 21/203

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (12)

特開平4-187594
特開平4-146618
特開平4-337627

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