ポジ型フォトレジスト組成物

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：萩野平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999240600
Publication number (International publication number)：2000231194
Application date： Aug. 26, 1999
Publication date： Aug. 22, 2000
Summary：

【要約】【課題】遠紫外光、とくにKrF又はArFエキシマレーザー光を使用するミクロフォトファブリケ-ション本来の性能向上技術の課題を解決することであり、具体的には、高い感度を有し、現像残さが少なく、疎密依存性が優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。【解決手段】活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、及び一般式(I) -SO2-O-Rで表される基を含む繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂を含有するポジ型フォトレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、及び一般式(I)-SO2-O-R(ここでRは、置換基を有していてもよい、アルキル基、環状アルキル基又はアルケニル基を表す。)で表される基を含む繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。

IPC (7)：

G03F 7/039 601 , C08F 12/30 , C08F 20/38 , C08F 20/56 , G03F 7/004 503 , G03F 7/027 , H01L 21/027

FI (7)：

G03F 7/039 601 , C08F 12/30 , C08F 20/38 , C08F 20/56 , G03F 7/004 503 A , G03F 7/027 , H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

平版印刷版用原版
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-010755 Applicant：富士写真フイルム株式会社
ポジ型感光性組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-024011 Applicant：富士写真フイルム株式会社
特開平4-149445

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