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J-GLOBAL ID：200903025060128659

イオン発生装置

Inventor： 赤井 伴教 ,  野島 秀雄 ,  西川 和男 ,  八木 久晴
Applicant, Patent owner： シャープ株式会社
Agent (6)： 深見 久郎 ,  森田 俊雄 ,  仲村 義平 ,  堀井 豊 ,  野田 久登 ,  酒井 將行
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003109443
Publication number (International publication number)：2004319183
Application date： Apr. 14, 2003
Publication date： Nov. 11, 2004
Summary：

【課題】環境の変化に応じてイオン濃度を制御すること。【解決手段】パルス電圧が印加されると放電して周辺の水蒸気をイオン化するイオン発生素子110と、イオン濃度を検出するイオン濃度センサ(センサ102)と、検出されたイオン濃度に基づいて、イオン発生素子110に印加するパルス電圧の波形を決定する制御部101と、制御部101により制御され、決定された波形のパルス電圧をイオン発生素子110に印加する高圧パルス駆動回路103とを備える。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

パルス電圧が印加されると放電して周辺の非イオン化物をイオン化する放電手段と、 環境変数を検出する検出手段と、 前記検出手段により検出された環境変数に基づいて、前記放電手段に印加するパルス電圧の波形を決定する制御手段と、 前記制御手段により制御され、前記決定された波形でパルス電圧を前記放電手段に印加する駆動手段とを備えた、イオン発生装置。

IPC (5)：

H01T23/00 ,  B03C3/02 ,  B03C3/40 ,  B03C3/68 ,  H01T19/00

FI (5)：

H01T23/00 ,  B03C3/02 A ,  B03C3/40 C ,  B03C3/68 Z ,  H01T19/00

F-Term (9)：

4D054AA11 ,  4D054BA19 ,  4D054CA01 ,  4D054CA11 ,  4D054CA13 ,  4D054CA14 ,  4D054CA18 ,  4D054EA01 ,  4D054EA11