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J-GLOBAL ID:200903025095009385

滴センタリング装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 山本 恵一
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2000608206
Publication number (International publication number):2002540464
Application date: Mar. 24, 2000
Publication date: Nov. 26, 2002
Summary:
【要約】【課題】 表面(4)の所定の位置に、滴(2)をセンタリングする方法である。【解決手段】 本発明の方法は、鐘形のくぼみ(6)を形成することより成り、該くぼみは、滴とくぼみの接触の境界のポイントにおいて、該ポイントならびに対称ポイント(CP2)の両方で表面に接している円(TC)の曲率よりも小さい、またはそれと反対の曲率を備えるよう該位置に形成される。
Claim (excerpt):
表面(4)の所定の位置に、液滴(2)をセンタリングする方法において、 くぼみ(6)が、滴とくぼみの接触の境界のポイント(CP1)において、表面の該ポイントならびに対称ポイント(CP2)の両方で、くぼみの表面に接している円(TC)の曲率よりも小さい、またはそれと反対の曲率を備えるよう該位置に形成されることを特徴とする、表面(4)の所定の位置に、液滴(2)をセンタリングする方法。
IPC (2):
G02B 3/14 ,  G02B 3/00
FI (2):
G02B 3/14 ,  G02B 3/00 Z
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)

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