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J-GLOBAL ID：200903025099868749

処理装置

Inventor： 風間 晃一 ,  窪田 昌巳
Applicant, Patent owner： 東京エレクトロン株式会社 ,  東京エレクトロン山梨株式会社
Agent (1)： 金本 哲男 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994180670
Publication number (International publication number)：1996031755
Application date： Jul. 08, 1994
Publication date： Feb. 02, 1996
Summary：

【要約】【目的】 処理容器内の上部電極や載置台の冷却効率を向上させる。【構成】 被処理体を載置する載置台内に形成された冷媒流路5の内部に、山部と谷部とを交互に連続して有する、側面が略波型の放熱体を、複数組み合わされて構成された熱伝達部材21を収納する。冷媒との接触面積が増大して熱交換が促進され、冷媒による載置台の冷却効率が向上する。

Claim (excerpt)：

減圧自在な処理容器内の上下に上部電極と下部電極を対向して有し、処理ガス導入部から導入される処理ガスを前記上部電極を介して前記被処理体に対して吐出させると共に、前記上部電極と下部電極との間にプラズマを発生させ、当該処理容器内の被処理体に対して前記プラズマ雰囲気の下で所定の処理を施す如く構成された処理装置において、前記上部電極の内部に、放熱フィンを略格子状に配した構造を有する熱伝達部材が設けられると共に、この熱伝達部材にはガス流通孔が設けられ、前記処理ガスはこのガス流通孔を通じて前記被処理体に吐出するように構成されたことを特徴とする、処理装置。

IPC (4)：

H01L 21/205 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 23/467

FI (2)：

H01L 21/302 C ,  H01L 23/46 C

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• プラズマ装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-286329   Applicant：東京エレクトロン山梨株式会社
• プラズマ処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-032279   Applicant：富士通株式会社

Cited by examiner (2)

• プラズマ装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-286329   Applicant：東京エレクトロン山梨株式会社
• プラズマ処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-032279   Applicant：富士通株式会社