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J-GLOBAL ID：200903025129079353

回転式基板処理装置

Inventor： 矢部 学
Applicant, Patent owner： 大日本スクリーン製造株式会社
Agent (1)： 杉谷 勉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995323839
Publication number (International publication number)：1997148231
Application date： Nov. 16, 1995
Publication date： Jun. 06, 1997
Summary：

【要約】【課題】 飛散防止カップ外に漏洩したミストや臭気を排気することにより、安全衛生上の問題を回避することができるとともに、装置内部での基板汚染や装置外部の基板汚染を防止することができる。【解決手段】 基板Wを回転駆動する回転駆動部1と、フォトレジスト液を供給する処理液供給ノズル5と、基板Wの周囲を囲ってフォトレジスト液の飛散を防止する飛散防止カップ10と、前記各部を覆い、上方から下方へ向かうダウンフローDFを連通可能に構成され、飛散防止カップ10内を排気するカップ内排気口30を形成されている外容器20と、を備える回転式基板塗布装置において、外容器20は、飛散防止カップ10の周囲のダウンフローDFを排気するカップ外排気口50を形成されている。カップ外排気口50には、排気流量を調節する自動ダンパー51bが連通されている。

Claim (excerpt)：

基板を保持して回転駆動する回転駆動手段と、前記基板に対して処理液を供給する処理液供給手段と、前記基板の周囲を囲って処理液の飛散を防止する飛散防止カップと、前記回転駆動手段と、前記処理液供給手段と、前記飛散防止カップとを覆い、上方から下方へ向かう気流(ダウンフロー)を連通可能に構成され、前記飛散防止カップ内を排気するカップ内排気口を形成されている外容器と、を備える回転式基板処理装置において、前記外容器は、前記飛散防止カップの周囲のダウンフローを排気するカップ外排気口を形成されていることを特徴とする回転式基板処理装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  H01L 21/304 341

FI (3)：

H01L 21/30 564 C ,  H01L 21/304 341 N ,  H01L 21/30 569 C