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J-GLOBAL ID：200903025137014872

レジスト組成物

Inventor： 武部 洋子 ,  児玉 俊一 ,  金子 勇
Applicant, Patent owner： 旭硝子株式会社
Agent (1)： 野口 恭弘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000173033
Publication number (International publication number)：2001350264
Application date： Jun. 09, 2000
Publication date： Dec. 21, 2001
Summary：

【要約】【課題】 アルカリ水溶液で現像可能で短波長の光源が適用でき、平坦性、ドライエッチング耐性、耐熱性等が保持できる含フッ素光レジスト組成物を提供すること。【解決手段】 ブロック化された酸性基を有する含フッ素ビニルモノマー(a)のモノマー単位、脂環基型ビニルモノマー(b)のモノマー単位を含む含フッ素ポリマー(X)、光照射を受けて酸を発生する酸発生化合物(Y)および有機溶媒(Z)を含むことを特徴とするレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

式1-1または式1-2で表されるブロック化された酸性基を有するモノマー単位(a)、脂環型エチレン性モノマーのモノマー単位(b)を含む含フッ素ポリマー(X)、光照射を受けて酸を発生する酸発生化合物(Y)および有機溶媒(Z)を含むことを特徴とするレジスト組成物。【化1】式1-1において、nは1〜10の整数を表し、Bはブロック化された酸性基を表す。また、式1-2において、mは1〜10の整数を表し、lは1〜3の整数を表し、Bは式1-1におけるBと同義である。

IPC (11)：

G03F 7/039 601 ,  C08F210/14 ,  C08F216/14 ,  C08F216/16 ,  C08F224/00 ,  C08F232/00 ,  C08F234/00 ,  C08K 5/00 ,  C08L 27/12 ,  C08L 57/00 ,  H01L 21/027

FI (11)：

G03F 7/039 601 ,  C08F210/14 ,  C08F216/14 ,  C08F216/16 ,  C08F224/00 ,  C08F232/00 ,  C08F234/00 ,  C08K 5/00 ,  C08L 27/12 ,  C08L 57/00 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (41)：

2H025AA04 ,  2H025AA09 ,  2H025AA10 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE08 ,  2H025BE10 ,  2H025BF09 ,  2H025BF11 ,  2H025BG00 ,  2H025CB45 ,  2H025CC03 ,  2H025FA17 ,  4J002BB171 ,  4J002BB191 ,  4J002BE041 ,  4J002BK001 ,  4J002EQ016 ,  4J002EU186 ,  4J002EV296 ,  4J002FD206 ,  4J002GP03 ,  4J100AA15Q ,  4J100AA20Q ,  4J100AE09P ,  4J100AE09Q ,  4J100AR11Q ,  4J100AR16Q ,  4J100AR32Q ,  4J100AU28Q ,  4J100BA02P ,  4J100BA15P ,  4J100BB10P ,  4J100BC08Q ,  4J100BC12Q ,  4J100BC53P ,  4J100CA04 ,  4J100JA38