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J-GLOBAL ID：200903025232302214
光導波路作製法および装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
工業技術院電子技術総合研究所長
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993148639
Publication number (International publication number)：1994337320
Application date： May. 27, 1993
Publication date： Dec. 06, 1994
Summary：
【要約】【目的】 光集積回路の集積度を向上させるために、感光層内に三次元的に光導波路を作製することである。【構成】 フォトポリマ等の光照射により感光部の屈折率が変化しかつこの感光部を固定化することが可能な感光性材料からなる感光層1bを基板1a上に設けた被露光体1をXYZステージ2上にセットし、レーザ光をレンズ系7で集束光にし、この光の焦点位置を感光層1bに対して相対的に動かすことにより感光部1cを形成し、これを固定化することにより光導波路パターン1dを作製する。
Claim (excerpt)：
露光により感光された感光部の屈折率が変化しかつこの感光部を固定化することができる感光性材料からなる感光層に、光照射手段により集束光を照射して当該集束光の焦点位置の感光性材料のみを感光させて感光部とし、かつ当該集束光の焦点位置と前記感光層との相対位置を三次元的に変化させることにより前記感光部を連続的に形成する工程と、この感光部を固定化することにより光導波路とする工程とを具備することを特徴とする光導波路作製法。
Patent cited by the Patent：
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