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J-GLOBAL ID：200903025260746101

塗布膜形成装置

Inventor： 河野 幸弘
Applicant, Patent owner： 東京エレクトロン株式会社
Agent (1)： 中本 菊彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996331663
Publication number (International publication number)：1998156255
Application date： Nov. 27, 1996
Publication date： Jun. 16, 1998
Summary：

【要約】【課題】 帯状に吐出される塗布液の吐出量を均一にして均一な膜厚を形成すること。【解決手段】 載置台10によって水平姿勢に保持される基板Gと、この基板Gの幅方向に延びるスリット状吐出口21を有するレジスト供給ノズル20とを、相対的に平行移動して、レジスト供給ノズル20のスリット状吐出口21から帯状に供給されるレジスト液50を基板Gの表面全体に供給する塗布膜形成装置において、レジスト供給ノズル20のスリット状吐出口21における長手方向の両側に、スリット状吐出口21から吐出されるレジスト液50の吐出圧を低減する膜厚制御手段40を設ける。この膜厚制御手段40を、レジスト供給ノズル20のスリット状吐出口21の長手方向の両側に吸引管42を介して接続する吸引ポンプ43にて形成する。

Claim (excerpt)：

水平姿勢に保持される基板と、この基板の幅方向に延びるスリット状吐出口を有する塗布液供給手段とを、相対的に移動して、上記塗布液供給手段のスリット状吐出口から帯状に供給される塗布液を上記基板の表面全体に供給する塗布膜形成装置において、上記塗布液供給手段のスリット状吐出口における長手方向の両側に、スリット状吐出口から吐出される塗布液の吐出圧を低減する膜厚制御手段を具備する、ことを特徴とする塗布膜形成装置。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 流体塗布装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-154409   Applicant：平田機工株式会社, シプレイ・ファーイースト株式会社
• ダイコーティング方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-191247   Applicant：三菱化学株式会社
• 特開平3-202171
  
• 特開平1-203073