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J-GLOBAL ID：200903025296988292
イオン注入均一性予測方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
原 謙三
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991248812
Publication number (International publication number)：1993089811
Application date： Sep. 27, 1991
Publication date： Apr. 09, 1993
Summary：
【要約】【構成】 走査速度とビームプロファイルとの関係から求められる分布関数を用いてターゲットへの注入均一性を予測するものである。そして、走査速度は、イオンビーム1の軸線上における前後2個所に配置された第1および第2多点モニタ8・15から得られ、ビームプロファイルは、走査方向におけるビームスポットの電流分布から得られる構成である。【効果】 走査速度とビームプロファイルとの関係から求められる正確な分布関数を用いて注入均一性を予測することができるため、たとえビームスポットが大きな場合でも、実際にターゲットにイオン注入することなく、ターゲットの注入量分布を正確に予測することができる。
Claim (excerpt)：
走査速度とビームプロファイルとの関係から求められる分布関数を用いてターゲットへの注入均一性を予測するイオン注入均一性予測方法であって、上記走査速度がイオンビームの軸線上における前後2個所に配置された多点モニタから得られ、上記ビームプロファイルが走査方向におけるビームスポットの電流分布から得られることを特徴とするイオン注入均一性予測方法。
IPC (4)：
H01J 37/04
, H01J 37/317
, H01L 21/265
, G01T 1/29
