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J-GLOBAL ID：200903025326052963

下水処理方法およびその装置

Inventor：
安楽 幸一

About 安楽 幸一


Applicant, Patent owner：
前澤工業株式会社

About 前澤工業株式会社


Agent (1)： 磯野 道造
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992275828
Publication number (International publication number)：1994126289
Application date： Oct. 14, 1992
Publication date： May. 10, 1994
Summary：
【要約】【目的】 処理された排ガス中に含まれる酸素を有効利用すると共に、下水処理の性能を向上させることができることを目的とする。【構成】 原水を高濃度のオゾンガスに接触させた後、活性炭に接触させる処理工程を備えた下水処理方法において、前記オゾンガスと前記原水を接触させた後の排ガスを触媒で処理し、前記オゾンガスで処理した原水を前記活性炭を介して一部循環させ、その循環水に前記触媒により処理した排ガスを溶解させたことを特徴としている。
Claim (excerpt)：
原水を高濃度のオゾンガスに接触させた後、活性炭に接触させる処理工程を備えた下水処理方法において、前記オゾンガスと前記原水を接触させた後の排ガスを触媒で処理し、前記オゾンガスで処理した原水を前記活性炭を介して一部循環させ、その循環水に前記触媒により処理した排ガスを溶解させたことを特徴とする下水処理方法。
IPC (4)：
C02F 1/78 ,  C02F 1/28 ,  C02F 3/26 ,  C02F 9/00
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
  • 特開平3-038291
  • 特開昭56-168885
  • 特開昭53-063765
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