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J-GLOBAL ID:200903025335666354

プラズマ発生装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 猪股 祥晃 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000065072
Publication number (International publication number):2001257097
Application date: Mar. 09, 2000
Publication date: Sep. 21, 2001
Summary:
【要約】【課題】導波管の数を複数にした場合も、プラズマが容易に生成でき、大型の放電容器においてもプラズマの空間的な分布を制御できるプラズマ発生装置を提供する。【解決手段】放電容器と、この放電容器内にプラズマ生成用のガスを導入するガス導入手段と、マイクロ波発生源から送出されたマイクロ波電力を放電容器内へ注入する複数の導波管とを備え、電子密度が1011/cm2 以上のプラズマを生成できるプラズマ発生装置において、複数の導波管は放電容器に締結されているとともに、複数の導波管から放電容器へ時間差を設けてマイクロ波を導入できるように各導波管の各々に切換器とダミーロードを設けている。したがって、複数の導波管から放電容器へ時間差をつけてマイクロ波を供給できるので、プラズマが容易に発生できるとともに、マイクロ波電力の供給個所を分散させてプラズマの空間的な分布も制御できる。
Claim (excerpt):
放電容器と、この放電容器内にプラズマ生成用のガスを導入するガス導入手段と、マイクロ波発生源から送出されたマイクロ波電力を前記放電容器内へ注入する複数の導波管とを備え、電子密度が1011/cm2 以上のプラズマを生成できるプラズマ発生装置において、前記複数の導波管は前記放電容器に締結されているとともに、前記複数の導波管から前記放電容器へ時間差を設けてマイクロ波を導入できるように当該導波管の各々に切換器とダミーロードを設けたことを特徴とするプラズマ発生装置。
IPC (6):
H05H 1/46 ,  C23C 16/511 ,  G21B 1/00 ,  H01J 27/18 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065
FI (6):
H05H 1/46 B ,  C23C 16/511 ,  G21B 1/00 U ,  H01J 27/18 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/302 B
F-Term (18):
4K030KA30 ,  5C030DD02 ,  5C030DE01 ,  5C030DE10 ,  5F004AA01 ,  5F004BA20 ,  5F004BB12 ,  5F004BB14 ,  5F004BB29 ,  5F004CA03 ,  5F004CA07 ,  5F004CA08 ,  5F004CB06 ,  5F045BB01 ,  5F045EH03 ,  5F045EH19 ,  5F045GB08 ,  5F045GB15

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