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J-GLOBAL ID：200903025336075384
厚膜パターンの形成方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994313778
Publication number (International publication number)：1996171858
Application date： Dec. 16, 1994
Publication date： Jul. 02, 1996
Summary：
【要約】【目的】特に形成される厚膜パターン形状が良好な矩形を示す厚膜パターンの形成方法を提供すること。【構成】透明基板1上に感光性組成物2を塗布した後、露光、現像、焼成によりパターン化してなる厚膜パターンの形成方法において、前記感光性組成物を塗布した透明基板の表裏両面上から面対称となるパターンマスク3、4を介して同時に露光することを特徴とする。
Claim (excerpt)：
透明基板上に感光性組成物を塗布した後、露光、現像、焼成によりパターン化してなる厚膜パターンの形成方法において、前記感光性組成物を塗布した透明基板の表裏両面上にパターンマスクを介して露光することを特徴とする厚膜パターンの形成方法。
IPC (4)：
H01J 9/24
, H01J 9/02
, H01J 17/16
, H01J 31/12
