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J-GLOBAL ID：200903025348341799

光学素子の製造方法

Inventor： 石丸 維敏 ,  斉藤 隆央
Applicant, Patent owner： 積水化学工業株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997180982
Publication number (International publication number)：1999023843
Application date： Jul. 07, 1997
Publication date： Jan. 29, 1999
Summary：

【要約】【課題】 安価で、光学性能の優れたトリアセチルセルロースや鹸化トリアセチルセルロースのフィルムを基板として使用し、液晶性高分子を該基板を変質させずに配向固定して、従来より高度な補償性能を有する光学フィルムを、低コストで、製造する方法を提供する。【解決手段】 少なくとも一方の表面にトリアセチルセルロース又は/及び鹸化トリアセチルセルロースからなる層を有する基板の該一の層の表面を直接ラビング処理し、該ラビング処理面に、液晶性高分子の2,6-ジメチル-4-ヘプタノン又は/及び4-ヘプタノンの溶液を塗工、乾燥することにより、基板表面に液晶性高分子層を配向固定することを特徴とする。

Claim (excerpt)：

少なくとも一方の表面にトリアセチルセルロース又は/及び鹸化トリアセチルセルロースからなる層を有する基板の該一の層の表面を直接ラビング処理し、該ラビング処理面に、液晶性高分子の2,6-ジメチル-4-ヘプタノン又は/及び4-ヘプタノンの溶液を塗工、乾燥することにより、基板表面に液晶性高分子層を配向固定することを特徴とする光学素子の製造方法。

IPC (4)：

G02B 5/30 ,  B29D 11/00 ,  G02F 1/1337 ,  B29K 1:00

FI (3)：

G02B 5/30 ,  B29D 11/00 ,  G02F 1/1337