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J-GLOBAL ID：200903025351963423

アクティブマトリクス基板およびその製造方法

Inventor： 後藤 真志 ,  井上 真弓 ,  西谷 幹彦
Applicant, Patent owner： 松下電器産業株式会社
Agent (1)： 岩橋 文雄 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001064576
Publication number (International publication number)：2002268585
Application date： Mar. 08, 2001
Publication date： Sep. 20, 2002
Summary：

【要約】【課題】 液晶表示装置等に用いられるアクティブマトリクス基板の特性を劣化させることなく製造工程を削減することが可能となるアクティブマトリクス基板およびその製造方法を提供する。【解決手段】 一部のフォトリソグラフィ工程の代わりに、印刷法によってパターンを形成することによってコストの高いフォトリソグラフィ工程の回数を削減し、製造コストの削減をする。また、ゲート電極の端子部分の開口に、グレイトーン露光技術もしくはマスク成膜技術を用いて、工程数を削減する。これにより、2回から4回のフォトリソグラフィ工程でアクティブマトリクス基板の製造が可能となる。

Claim (excerpt)：

絶縁表面を有する基板上に、走査線を兼ねたゲート電極とゲート絶縁膜と半導体膜と信号線を兼ねたソース電極と透光性導電膜からなる画素電極に接続されたドレイン電極を具備する薄膜トランジスタがマトリクス状に配置されてなるアクティブマトリクス基板において、前記信号線を兼ねたソース電極が前記透光性導電膜と他の金属膜との積層膜からなり、前記画素電極上の一部と、ゲート電極の外部接続端子部上と、ソース電極の外部接続端子部上が少なくとも開口された有機絶縁膜からなる保護膜が、その表面に形成されていることを特徴とするアクティブマトリクス基板。

IPC (8)：

G09F 9/30 338 ,  G09F 9/30 330 ,  G09F 9/30 348 ,  G02F 1/1345 ,  G02F 1/1368 ,  G09F 9/00 338 ,  H01L 29/786 ,  H01L 21/336

FI (7)：

G09F 9/30 338 ,  G09F 9/30 330 Z ,  G09F 9/30 348 A ,  G02F 1/1345 ,  G02F 1/1368 ,  G09F 9/00 338 ,  H01L 29/78 612 D

F-Term (57)：

2H092GA43 ,  2H092HA18 ,  2H092HA28 ,  2H092JA24 ,  2H092JB24 ,  2H092JB56 ,  2H092MA12 ,  2H092NA27 ,  5C094AA43 ,  5C094AA45 ,  5C094BA03 ,  5C094BA43 ,  5C094CA19 ,  5C094DA15 ,  5C094EA04 ,  5C094EA07 ,  5F110AA16 ,  5F110BB01 ,  5F110CC07 ,  5F110EE03 ,  5F110EE04 ,  5F110EE06 ,  5F110EE14 ,  5F110EE34 ,  5F110FF03 ,  5F110FF30 ,  5F110GG02 ,  5F110GG15 ,  5F110GG24 ,  5F110GG45 ,  5F110HK03 ,  5F110HK04 ,  5F110HK06 ,  5F110HK07 ,  5F110HK09 ,  5F110HK16 ,  5F110HK21 ,  5F110HK22 ,  5F110HK33 ,  5F110HK35 ,  5F110NN03 ,  5F110NN23 ,  5F110NN24 ,  5F110NN27 ,  5F110NN33 ,  5F110NN36 ,  5F110NN37 ,  5F110QQ01 ,  5F110QQ06 ,  5F110QQ09 ,  5G435AA17 ,  5G435BB12 ,  5G435CC09 ,  5G435EE34 ,  5G435KK05 ,  5G435KK09 ,  5G435KK10