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J-GLOBAL ID：200903025359577450
再利用水を得るための回収水の処理方法及び装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
本多 小平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993076927
Publication number (International publication number)：1994285464
Application date： Apr. 02, 1993
Publication date： Oct. 11, 1994
Summary：
【要約】【目的】 半導体製造産業の設備等の洗浄に使用されている高純度水(純水)の使用後、これを処理して付属する設備に再利用水として用いる。【構成】 高純度水の使用済み排水を回収して、この回収水に含まれるモリブデン酸試薬に反応しない非イオン性のシリカ成分をイオン化させ、次いでイオン状のシリカ成分を逆浸透膜装置で膜濾過して除去する。
Claim (excerpt)：
半導体洗浄等に用いた高純度水の使用済み排水を回収して、この回収水に含まれるモリブデン酸試薬に反応しない非イオン性のシリカ成分をイオン化させ、次いでイオン状のシリカ成分を逆浸透膜装置で膜排除して除去することを特徴とする再利用水を得るための回収水の処理方法。
IPC (5)：
C02F 1/44
, C02F 1/32
, C02F 1/58 CDW
, C02F 1/78
, H01L 21/304 341
