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J-GLOBAL ID：200903025359713930
錫添加酸化インジウム三元機能膜及びその製造方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
田中 宏
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996282106
Publication number (International publication number)：1998130097
Application date： Oct. 24, 1996
Publication date： May. 19, 1998
Summary：
【要約】【目的】高配向性、低抵抗及び透明性を有するために透明電極ばかりでなく結晶基板としても各種デバイスや機能性結晶膜の形成に適した錫添加酸化インジウム膜及びその製造方法を提供する。【構成】ガラス基板上に(111)面に強く配向し、80%以上の光透過率を有し、3.5×10~4〜10×10~4Ωcmという低抵抗を有する錫添加酸化インジウム三元機能膜であって、例えば、In(C5H7O2)3及び(C4H9)2Sn(OCOCH3)2を含有するアルコール溶液を、加熱された基板上に噴霧して、(111)面配向を有する高配向の錫添加酸化インジウム膜を基板上に製膜することによって前記三元機能を有する錫添加酸化インジウム膜を製膜することができる。
Claim (excerpt)：
ガラス基板上に(111)面に強く配向し、80%以上の光透過率を有し、10×10~3〜10×10~4Ωcmという低抵抗を有する錫添加酸化インジウム三元機能膜。
IPC (6)：
C30B 29/22
, C01G 15/00
, C01G 19/00
, C03C 17/25
, H01B 5/14
, H01B 13/00 503
C30B 29/22 Z
, C01G 15/00 B
, C01G 19/00 A
, C03C 17/25 A
, H01B 5/14 A
, H01B 13/00 503 C
