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J-GLOBAL ID：200903025360831017

基板端縁処理装置

Inventor： 木瀬 一夫 ,  志摩 泰正 ,  赤井 文昭
Applicant, Patent owner： 大日本スクリーン製造株式会社
Agent (1)： 吉田 茂明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993269990
Publication number (International publication number)：1995106240
Application date： Oct. 01, 1993
Publication date： Apr. 21, 1995
Summary：

【要約】【目的】 複数種類のリンス液を順次、基板端縁に吐出して洗浄することができる基板端縁洗浄装置を提供する。【構成】 ノズル51a,51bが基板保持ユニット2に保持された基板1の端縁に向けて設けられ、処理液供給ユニットからの処理液Aがノズル51a,51bから基板1の端縁部分に吐出される。また、ノズル51aよりも基板端縁側に向けてノズル52aが、またノズル51bよりも基板中央側にノズル52bがそれぞれ設けられる。処理液Aがノズル51a,51bから基板1の端縁に吐出された後、処理液Bが基板1の表面側ではノズル51aによる吐出位置よりも基板端縁側の領域に吐出され、その裏面側ではノズル51bによる吐出位置よりも基板中央側より吐出される。

Claim (excerpt)：

表面に薄膜が形成された基板を保持する基板保持手段と、前記基板の表面の端縁に向けて第1の処理液を吐出する第1の処理液吐出ノズルと、前記第1の処理液吐出ノズルによる吐出位置よりも基板端縁側の位置に前記第1の処理液とは異なる第2の処理液を吐出する第2の処理液吐出ノズルとを有することを特徴とする基板端縁処理装置。

IPC (4)：

H01L 21/027 ,  B05C 11/08 ,  G03F 7/16 501 ,  H01L 21/304 341

FI (2)：

H01L 21/30 577 ,  H01L 21/30 564 C

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開平3-256321
  
• 基板端縁洗浄装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-357131   Applicant：大日本スクリーン製造株式会社