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J-GLOBAL ID：200903025360872139

ポジ型フォトレジスト組成物

Inventor： 岡崎 智 ,  西川 和宏 ,  畠山 潤 ,  梅村 光雄 ,  渡辺 聡 ,  石原 俊信
Applicant, Patent owner： 信越化学工業株式会社
Agent (1)： 小島 隆司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993263012
Publication number (International publication number)：1995092671
Application date： Sep. 27, 1993
Publication date： Apr. 07, 1995
Summary：

【要約】【構成】 アルカリ可溶性ノボラック樹脂と1,2-キノンジアジド化合物とを含有するか、又は1,2-キノンジアジド基が導入されたアルカリ可溶性ノボラック樹脂が含有されたポジ型フォトレジスト組成物に、下記式(1)で示され、重量平均分子量が3,000〜50,000で分散度が1.01〜2.0の単分散ポリヒドロキシスチレンポリマーを溶解促進剤として配合したことを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】(ただし、R1及びR2は炭素数1〜6のアルキル基又は水素原子を示す。)【効果】 本発明のポジ型フォトレジスト組成物は、感度が良好で、現像液に対する溶解性に優れ、また、耐熱性に優れるレジスト膜を与えることができるものである。

Claim (excerpt)：

アルカリ可溶性ノボラック樹脂と1,2-キノンジアジド化合物とを含有するか、又は1,2-キノンジアジド基が導入されたアルカリ可溶性ノボラック樹脂が含有されたポジ型フォトレジスト組成物に、下記式(1)で示され、重量平均分子量が3,000〜50,000で分散度が1.01〜2.0の単分散ポリヒドロキシスチレンポリマーを溶解促進剤として配合したことを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】(ただし、R1及びR2は炭素数1〜6のアルキル基又は水素原子を示す。)

IPC (2)：

G03F 7/022 ,  H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 特表平2-502312
  
• 特開平2-010349
  
• 特開昭61-252546
  
• 特開昭59-199705
  
• 4-(メトキシメトキシ)スチレン
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-038671   Applicant：信越化学工業株式会社