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J-GLOBAL ID：200903025366492664

重合性モノマー及びその製造方法

Inventor： 中村 雅 ,  百瀬 陽 ,  加藤 修
Applicant, Patent owner： 三菱レイヨン株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006352136
Publication number (International publication number)：2008115148
Application date： Dec. 27, 2006
Publication date： May. 22, 2008
Summary：

【課題】レジストのラインエッジラフネスの改善に寄与するための親水性基含有ナフチル基骨格を持ち、(メタ)アクリル酸又は(メタ)アクリル酸エステル等の重合性モノマーと共重合させた場合に共重合性が良好で、組成が均一であり、波長193nmの光線透過率が高い重合体を得ることができる重合性モノマー及びその製造方法を提供する。【解決手段】特定のナフタレン骨格を有する重合性モノマー及び特定のモノマーを特定の条件下で反応させる重合性モノマーの製造方法。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

下記式(1)で表されるナフタレン骨格を有する重合性モノマー。

IPC (5)：

C07C 69/54 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027 ,  C07C 67/10 ,  C07C 69/96

FI (5)：

C07C69/54 Z ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R ,  C07C67/10 ,  C07C69/96 Z

F-Term (41)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB14 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BF03 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025FA03 ,  4H006AA01 ,  4H006AA02 ,  4H006AB46 ,  4H006AB76 ,  4J100AG08R ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100BA02R ,  4J100BA03R ,  4J100BA03S ,  4J100BA08R ,  4J100BA11Q ,  4J100BA16R ,  4J100BA22R ,  4J100BC04R ,  4J100BC08R ,  4J100BC09Q ,  4J100BC09R ,  4J100BC09S ,  4J100BC49R ,  4J100BC53Q ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100JA37

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-130131   Applicant：富士通株式会社
• 化学増幅型ポジ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-012406   Applicant：住友化学工業株式会社
• 新規樹脂およびそれを含有するフォトレジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-154310   Applicant：シップレーカンパニーエルエルシー