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J-GLOBAL ID：200903025376258970

有機無機複合体形成用材料及び有機無機複合体並びにそれを用いた光学素子

Inventor： 林 伸彦 ,  松本 光晴 ,  中井 正也 ,  蔵本 慶一
Applicant, Patent owner： 三洋電機株式会社
Agent (2)： 目次 誠 ,  宮▲崎▼主税
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007142854
Publication number (International publication number)：2008081726
Application date： May. 30, 2007
Publication date： Apr. 10, 2008
Summary：

【課題】金属酸化物微粒子を白濁させずに、フルオレン系樹脂中に分散させて、高い屈折率を有する有機無機複合体を形成することができる有機無機複合体形成用材料及びそれを重合してなる有機無機複合体並びにそれを用いた光学素子を得る。【解決手段】アクリロイル基またはメタクリロイル基を有するフルオレン系化合物と、フルオレン系化合物以外のアクリルモノマーと、金属酸化物微粒子と、アルキルアミンと、フェニル基を有する有機アミンと、光重合開始剤とを含有することを特徴としている。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

アクリロイル基またはメタクリロイル基を有するフルオレン系化合物と、前記フルオレン系化合物以外のアクリルモノマーと、金属酸化物微粒子と、アルキルアミンと、フェニル基を有する有機アミンと、光重合開始剤とを含有することを特徴とする有機無機複合体形成用材料。

IPC (4)：

C08F 2/44 ,  C08F 220/30 ,  G02B 1/04 ,  G02B 3/00

FI (4)：

C08F2/44 A ,  C08F220/30 ,  G02B1/04 ,  G02B3/00 Z

F-Term (19)：

4J011AA05 ,  4J011PA07 ,  4J011PA36 ,  4J011PB22 ,  4J100AL08Q ,  4J100AL62Q ,  4J100AL66P ,  4J100AL66Q ,  4J100BA02P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA08Q ,  4J100BC43P ,  4J100BC43Q ,  4J100BC48P ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100DA63 ,  4J100JA32 ,  4J100JA33

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 有機溶媒分散型シュウ酸・クエン酸安定型酸化ニオブゾルの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-123676   Applicant：多木化学株式会社
• 有機溶媒分散型酸化チタンゾル及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-389402   Applicant：多木化学株式会社