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J-GLOBAL ID：200903025430725937

露光方法及び露光装置

Inventor： 伊東 昌昭 ,  小川 太郎 ,  山梨 弘将 ,  瀬谷 英一
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998256289
Publication number (International publication number)：2000091195
Application date： Sep. 10, 1998
Publication date： Mar. 31, 2000
Summary：

【要約】【課題】 レーザプラズマ光源を用いた極端紫外光リソグラフィ技術において、ウェハ上の露光量を高精度に制御する。【解決手段】 レーザ光2を標的に照射して極端紫外光領域のパルス光を発生させ、極端紫外光を照明光学系6を介してマスク7に照射し、マスクのパターンを投影光学系を介してウェハ9に転写する。極端紫外光の強度をパルス毎に検出し、その検出結果に基づき、発生する極端紫外光の強度や、レーザ光が標的を単位時間に照射する回数を変化させて、露光量を制御する。【効果】 転写パターンの寸法精度が向上する。

Claim (excerpt)：

レーザ光を標的に照射して極端紫外光領域の光を発生する工程と、該極端紫外光を照明光学系を介してマスクに照射する工程と、該マスクのパターンを投影光学系を介して試料に転写する工程とを含む露光方法において、該極端紫外光の強度を検出し、該検出結果に基づき、該標的から発生する該極端紫外光の強度を変化させて、該試料における露光量を制御することを特徴とする露光方法。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 502 ,  G03F 7/20 521

FI (4)：

H01L 21/30 531 E ,  G03F 7/20 502 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 531 A

F-Term (12)：

2H097BB01 ,  2H097CA13 ,  2H097GB01 ,  2H097LA10 ,  5F046CA08 ,  5F046CB02 ,  5F046CB17 ,  5F046CB25 ,  5F046DA01 ,  5F046DA02 ,  5F046DB01 ,  5F046DC02