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J-GLOBAL ID：200903025461767930

レーザ露光描画装置

Inventor： 大蔦 正人 ,  木村 景一 ,  羽賀 元久 ,  赤尾 茂 ,  田中 宏明
Applicant, Patent owner： ソニー株式会社
Agent (1)： 松隈 秀盛
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994011859
Publication number (International publication number)：1995221000
Application date： Feb. 03, 1994
Publication date： Aug. 18, 1995
Summary：

【要約】【目的】 ウエハ上のレジストに照射するレーザ光の光強度を大きくすることができるレーザ露光描画装置を提供することを目的とする。【構成】 レーザ光束12を走査させて被照射体31の表面に露光描画を形成するためのレーザ露光描画装置において、光源として複数のレーザ光源11を用いる。それによって、一度に2箇所以上にレーザ光を照射して露光描画することができる。

Claim (excerpt)：

レーザ光束を走査させて被照射体の表面に露光描画を形成するためのレーザ露光描画装置において、光源として複数のレーザ光源を用いたことを特徴とするレーザ露光描画装置。

IPC (5)：

H01L 21/027 ,  G03B 27/32 ,  G03F 1/08 ,  G03F 7/20 505 ,  G03F 7/20 521

FI (2)：

H01L 21/30 529 ,  H01L 21/30 518