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J-GLOBAL ID:200903025465695658

シームレスカプセル製造装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 筒井 大和 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1991127819
Publication number (International publication number):1993200276
Application date: May. 30, 1991
Publication date: Aug. 10, 1993
Summary:
【要約】【目的】 生成されたシームレスカプセルの分離装置上への落下を平面的に万遍なく平均的に行う。【構成】 多重ノズル7から多層液流を噴出させて多層液滴を形成し、前記多層液滴を硬化用液10と接触させてシームレスカプセルSCを製造する装置であって、硬化用液10と共に供給路13から分離タンク14a内の分離用多孔体14b上に落下して来たシームレスカプセルSCを硬化用液10から分離する分離装置14を有し、この分離装置14の分離用多孔体14b上でのシームレスカプセルSCの落下点が複数の円運動または往復運動あるいはそれらの組合せ運動による合成軌跡を画くようにした。
Claim (excerpt):
液滴の少なくとも最外部を硬化用液との接触により硬化させてシームレスカプセルを製造する装置であって、生成されたシームレスカプセルを含む硬化用液を供給する供給手段と、該供給手段から落下した該シームレスカプセルを該硬化用液から分離する分離装置とを備え、前記供給手段から前記分離装置上に落下するシームレスカプセルと硬化用液の落下点が前記分離装置上で複数の円運動または往復運動あるいは円運動と往復運動の組合せの合成軌跡を画くように構成したシームレスカプセル製造装置。

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