化学蒸着装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：保立浩一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999108970
Publication number (International publication number)：2000303182
Application date： Apr. 16, 1999
Publication date： Oct. 31, 2000
Summary：

【要約】【課題】高温媒体CVD法を行う化学蒸着装置において、高温媒体の垂れに起因した問題を解消し、ランニングコストや生産性を向上させる。【解決手段】減圧状態の処理チャンバー1内のガス導入ヘッド31から導入された原料ガスが、エネルギー印加機構5により所定の高温に維持された高温媒体4の表面に接触するか表面付近を通過する際に生じた生成物が、基板ホルダー2により垂直かつ互いに平行に保持された二枚の基板9の表面に到達して薄膜が作成される。高温媒体4は、二枚の基板9から等距離の垂直な面上で延びるとともに端部が上側に位置したU字状の形状の複数本のワイヤー状の媒体エレメント41から成り、各媒体エレメント41は独立して温度制御される。ガス導入ヘッド31は各媒体エレメント41と同じ面上に複数設けられていてそれらのガス導入量が独立して制御可能であり、一つの媒体エレメント41と一つのガス導入ヘッド31が独立して処理チャンバー1から取り出される一つの媒体ヘッドユニットを構成している。

Claim (excerpt)：

内部を減圧状態に維持することが可能な処理チャンバーと、処理チャンバー内の所定の位置に基板を保持する基板ホルダーと、所定の原料ガスを処理チャンバーに導入するガス導入系と、ガス導入系より導入された原料ガスが表面に接触するか表面付近を通過するようにして処理チャンバー内に設けられた高温媒体と、高温媒体にエネルギーを印加して高温媒体を所定の高温に維持するエネルギー印加機構とを備えており、原料ガスが高温媒体の表面に接触するか又は表面付近を通過することにより生成された生成物が基板に到達することで基板の表面に所定の薄膜が作成される化学蒸着装置であって、前記基板ホルダーは基板を垂直に保持するものであり、前記高温媒体は、垂直な面であって前記基板ホルダーに保持された基板と平行な平面に沿って設けられており、さらに、前記高温媒体は、別々に取り付けられる複数の媒体エレメントから成るものであることを特徴とする化学蒸着装置。

IPC (2)：

C23C 16/46 , H01L 21/205

FI (2)：

C23C 16/46 , H01L 21/205

F-Term (23)：

4K030AA06 , 4K030BA29 , 4K030BB03 , 4K030BB05 , 4K030CA12 , 4K030FA10 , 4K030GA01 , 4K030KA25 , 5F045AD06 , 5F045AE15 , 5F045BB02 , 5F045BB07 , 5F045BB08 , 5F045DP11 , 5F045EB02 , 5F045EB03 , 5F045EF03 , 5F045EF11 , 5F045EG03 , 5F045EJ03 , 5F045EK07 , 5F045EK08 , 5F045EM05

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

ダイヤモンドの製造法及び装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-176762 Applicant：住友電気工業株式会社
加熱装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-200240 Applicant：新日本製鐵株式会社
半透明ダイヤモンド薄膜及びその製法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-016571 Applicant：ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ

Show all

Return to Previous Page