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J-GLOBAL ID：200903025502228593

マルチビーム記録装置

Inventor： 飯塚 隆之 ,  小川 良太
Applicant, Patent owner： 旭光学工業株式会社
Agent (1)： 松岡 修平
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996323587
Publication number (International publication number)：1998147007
Application date： Nov. 19, 1996
Publication date： Jun. 02, 1998
Summary：

【要約】【課題】 描画密度を高めるために、アパーチャー径とピッチとを小さくする場合にはより微細な加工が必要となり、投影倍率を小さくする場合には投影光学系にはより収差の少ない高精度な結像性能が要求され、いずれも製造コストが増大する。【解決手段】 有効な面積を持つ複数の光源(42,43)が離散的に2次元配列された光源部と、この複数の光源の像を被走査面(3)上に形成する投影光学系(44,45)と、露光期間中に光源の像と被走査面とを第1の方向に沿って相対的に直線移動させる第1の走査手段とを備え、光源部及び投影光学系が、被走査面上で第1の方向と直交する第2の方向における幾何光学的な光源像の径をa、第2の方向における光源像の配列ピッチをb、第1の方向における光源の配列数をMとしたときに、(a×M)/b > 1の条件を満たすことを特徴とする。

Claim (excerpt)：

有効な面積を持つ複数の光源が離散的に2次元配列された光源部と、該光源の像を被走査面上に形成する投影光学系と、露光期間中に前記光源部と前記被走査面とを第1の方向に沿って相対的に直線移動させる第1の走査手段とを備え、前記光源部及び前記投影光学系は、前記被走査面上で前記第1の方向と直交する第2の方向における幾何光学的な前記光源像の径をa、前記第2の方向における前記光源像の配列ピッチをb、前記第1の方向における光源の配列数をMとしたときに、(a×M)/b > 1の条件を満たすことを特徴とするマルチビーム記録装置。

IPC (5)：

B41J 2/44 ,  B41J 2/45 ,  B41J 2/455 ,  G02B 26/10 ,  H04N 1/113

FI (4)：

B41J 3/00 D ,  G02B 26/10 ,  B41J 3/21 L ,  H04N 1/04 104 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• マルチビーム記録装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-354645   Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
• LEDプリントヘッド
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-308516   Applicant：株式会社リコー
• 特開昭57-010162
  
• 特開昭57-192973