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J-GLOBAL ID：200903025517253535

錫又は錫合金めっき浴

Inventor：
武内 孝夫

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吉本 雅一

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近藤 哲也

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小幡 惠吾

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青木 和博

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縄舟 秀美

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Applicant, Patent owner：
株式会社大和化成研究所

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石原薬品株式会社

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Agent (1)： 倉内 基弘 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998248349
Publication number (International publication number)：2000080493
Application date： Sep. 02, 1998
Publication date： Mar. 21, 2000
Summary：
【要約】【課題】 新規な錫又は錫合金めっき浴を提供する。【解決手段】 本発明のめっき浴は、必須の成分として:(A)錫塩又は錫錯体の1種又は2種以上、或いは錫塩又は錫錯体の1種又は2種以上と錫以外の金属の塩又は錯体の1種又は2種以上、(B)酸、塩基及び(又は)錯化剤の1種又は2種以上、(C)界面活性剤の1種又は2種以上、(D)C1〜C6の低級脂肪族飽和の水溶性のアルコール、ケトン又はエーテルの1種又は2種以上、及び(E)ベンゼン環又はナフタレン環の水素を1〜6個の範囲で水酸基に置き換えた化合物及びそれらにさらにカルボキシル基又はスルホン酸基を導入したモノ(又はポリ)ヒドロキシベンゼン又はモノ(又はポリ)ヒドロキシナフタレン或いはそれらの誘導体の1種又は2種以上を含有してなることを特徴とする錫又は錫合金めっき浴である。
Claim (excerpt)：
必須の成分として:(A)錫塩又は錫錯体の1種又は2種以上、或いは錫塩又は錫錯体の1種又は2種以上と錫以外の金属の塩又は錯体の1種以上又は2種以上、(B)酸、塩基及び(又は)錯化剤の1種又は2種以上、(C)界面活性剤の1種又は2種以上、(D)C1〜C6の低級脂肪族飽和の水溶性のアルコール、ケトン又はエーテルの1種又は2種以上、及び(E)ベンゼン環又はナフタレン環の水素を1〜6個の範囲で水酸基に置き換えた化合物及びそれらにさらにカルボキシル基又はスルホン酸基を導入したモノ(又はポリ)ヒドロキシベンゼン又はモノ(又はポリ)ヒドロキシナフタレン或いはそれらの誘導体の1種又は2種以上を含有してなることを特徴とする錫又は錫合金めっき浴。
IPC (2)：
C25D 3/32 ,  C25D 3/60
FI (2)：
C25D 3/32 ,  C25D 3/60
F-Term (13)：
4K023AA17 ,  4K023AB33 ,  4K023BA06 ,  4K023BA08 ,  4K023BA26 ,  4K023BA29 ,  4K023CA04 ,  4K023CB03 ,  4K023CB05 ,  4K023CB08 ,  4K023CB13 ,  4K023CB21 ,  4K023DA06
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
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