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J-GLOBAL ID:200903025531241345

大気圧でのグロー放電プラズマによる表面洗浄装置および洗浄方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 奥山 尚男 (外3名)
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):1996536771
Publication number (International publication number):1999507990
Application date: Jun. 03, 1996
Publication date: Jul. 13, 1999
Summary:
【要約】ワークピース表面は、大気圧での定常かつ一様なグロー放電プラズマをワークピース表面上で生成させることによって洗浄される。この大気圧での定常かつ一様なグロー放電プラズマは、低周波RFイオントラッピング機構によって生成されることが好ましい。この表面洗浄を効果的にするプラズマは、ほぼ1気圧、またはそれ以下もしくはそれ以上の気圧における、空気中または他のガス中で作り出される。
Claim (excerpt):
ワークピースの表面から汚染物質を取り除いて清潔な基板とする方法であって、 1気圧(760mmHg)またはその周りの気圧において、定常かつ一様なグロー放電プラズマを生成するステップと、 前記汚染物質を有する前記ワークピース表面を所定の時間、前記生成されたプラズマに露出させて該汚染物質を取り除き、前記清潔な基板を与えるステップとを含むこと特徴とするプラズマ洗浄方法。
IPC (5):
C23G 5/00 ,  B08B 7/00 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/304 645 ,  H01L 21/3065
FI (5):
C23G 5/00 ,  B08B 7/00 ,  C23F 4/00 A ,  H01L 21/304 645 C ,  H01L 21/302 N

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