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J-GLOBAL ID:200903025539043496

被検査物の欠陥高さ測定装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 西森 正博
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993252075
Publication number (International publication number):1995270127
Application date: Aug. 31, 1993
Publication date: Oct. 20, 1995
Summary:
【要約】【目的】 欠陥の高さを測定して許容範囲内の高さであれば良品として歩留りを上げること。【構成】 検査装置により被検査物Aの欠陥Dの位置を決める。そして顕微鏡4でモニターし、欠陥Dをモニターの中心に置く。次に発光ダイオード2により欠陥Dの表面にレーザー光を投光する。そして欠陥Dからの反射光を位置検出素子6にて受光し、その位置検出素子6から信号により信号処理回路7にて欠陥Dの表面までの距離を計測する。次に欠陥D以外の被検査物Aの表面の場所で上述の操作を繰り返して被検査物Aの表面までの距離を計測する。そして演算部8にて被検査物Aまでの距離から欠陥Dまでの距離を減算することで、欠陥Dの高さを測定することができる。
Claim (excerpt):
被検査物(A)の表面と該被検査物(A)の表面に存在する欠陥(D)の表面とに光を投光し、その反射光を受光する位置検出素子(6)と、この位置検出素子(6)からの信号により欠陥(D)の高さを測定する制御手段(8)とを備えたことを特徴とする被検査物の欠陥高さ測定装置。

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