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J-GLOBAL ID:200903025609498470

金属汚染物の除去方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 浅村 皓 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993127338
Publication number (International publication number):1994061217
Application date: May. 28, 1993
Publication date: Mar. 04, 1994
Summary:
【要約】【目的】 苛性化学物質を使用することなく金属汚染物を除去する。【構成】 一般に、かつ本願発明の一形式において、一つの方法が表面11からの反応性金属汚染物16の光刺激除去方法に対して開示され、前記方法は、溶液14で以て表面を被覆するステップと、金属生成物を形成するために前記溶液14との前記反応性金属汚染物16の反応を可能にするに充分に光刺激によって前記反応性金属汚染物16及び/又は前記溶液14を励起するステップと、前記表面11から前記溶液14と前記金属生成物とを除去するステップとを含む。他の方法も又開示されている。
Claim (excerpt):
表面からの反応性金属汚染物の光刺激除去方法であって、溶液で以て前記表面を被覆し、金属生成物を形成するために前記溶液との前記反応性金属汚染物の反応を可能にする充分に光刺激によって前記反応性金属汚染物及び/又は前記溶液を励起し、前記表面から前記溶液と前記金属性とを除去するステップを含む方法。
IPC (3):
H01L 21/306 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/308
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
  • 特開平3-068139
  • 特開昭63-306630
  • 特開平1-226156

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